Procedimento per la realizzazione via plasma di rivestimenti di spessore nanometrico che permettono il rilascio controllato di ioni argento o di altri elementi, o di molecole di interesse biomedico, da prodotti solidi, e prodotti così rivestiti Process for the production by plasma of nanometric thickness coatings allowing controlled release of silver ions or of other elements, or of molecules of biomedical interest, from solid products, and products thus coated

La presente invenzione si riferisce alla realizzazione di rivestimenti idrofili con proprietà antibatteriche da rilascio controllato, uniforme e duraturo di ioni Ag+ in ambienti umidi. È stato dimostrato “in vitro” che coating depositati via plasma con struttura simile ai polimeri polietilenossido (PEO-like) scoraggiano l’adsorbimento di proteine e l’adesione cellulare; coating simili, quando contengono cluster di argento, hanno anche un netto effetto battericida, per esempio nei confronti di batteri P. aeuriginosa e S. epidermis . Essa si basa sullo studio di processi PE-CVD (Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition) per la deposizione di film sottili (20 nanometri - 1 micron) organici, inorganici o nano compositi. Variando il gas di alimentazione del plasma e le condizioni di deposizione si possono ottenere film sottili a composizione variabile in continuo con le condizioni di deposizione, dalle caratteristiche assolutamente uniche, tra i quali coating organici con caratteristiche “non fouling” di resistenza, cioè, all’adesione e alla contaminazione con sostanze organiche e biologiche in ambiente acquoso (con “monomeri” tipo glicoli etilenici). Accoppiando un processo di sputtering ad un processo PECVD convenzionale, è possibile produrre coating nanocompositi, costituiti, cioè, da cluster nanometrici (metallici, ceramici o polimerici) inclusi in film sottile.